根据阿斯麦透露的信息来，他们的新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制造完成，顶级芯片供应商准备最早2025年开始使用上述产品的量产机。
而且新一代EUV光刻机售价要比目前的EUV光刻机翻一倍，目前EUV光刻机的售价大概在2亿美元左右，而新一代EUV光刻机售价高达4亿美元。
不过即便售价这么高昂，也并不是有钱就能够买到，按照ASML一贯的作风，一旦这些顶级光刻机量产之后，他肯定会优先供应给他的一些股东们，包括英特尔、台积电以及及三星等少数厂家，其他厂家很难订购到这些最顶尖的光刻机，如此一来芯片行业还有可能进一步拉大差距。
对英特尔、台积电以及三星这些头部芯片制造商来说，拥有最顶尖的光刻机，他们生产出来的芯片性能要领先其他厂家一大截，如此一来，其他厂家根本就没有竞争优势。
对于我国芯片制造商来说，其实也存在很大的挑战，一直以来光刻机都是制约我国芯片发展的技术瓶颈。
我国是全球最大的芯片消费国之一，每年进口的集成电路高达4,000亿美元左右，同时目前我国也是全球最大的集成电路制造国之一，目前我国已经成为ASML最大的消费市场之一。
根据ASML2022年第一季度的财报数据显示，其收入构成当中有，34%来源于中国大陆，这个比重相对于2021年第4季度的22%，有了大幅度的提升。
按照2022年第1季度ASML的销量来推算，中国大陆购买的光刻机金额大约是13.5亿美元。
尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情。
而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机，这里面既有欧美的阻挠，估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机，毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后，这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战。
面对这种局面，想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了，不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明显。
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机，而且目前还没有正式量产，这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的，跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大。
面对这种现实，我觉得我国光刻机有必要更改一下技术路线，不一定要跟随ASML的步伐一头埋进浸润式光刻机技术路线当中。
在这条路线上ASML有积累、有资金、有技术、有供应链、有市场优势，所以我们再怎么拼估计也拼不过他们，这时候还不如放手一搏，去攻破其他光刻机技术路线，就像当年ASML放手一搏一样。
在2005年之前，ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已，当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康，但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上，然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题
不过面对光刻机技术瓶颈，当时ASML另辟蹊径，采用了浸润式光刻技术，他们不再片面的追求突破157纳米路线，而是退回193纳米，结果通过采用浸润式光刻技术，他们一路开挂，远远把尼康和佳能甩在后面。
尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势。
所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手。
这件事情给了我们很大的启示，对我国光刻机而言，反正我们在极紫光技术方面很难追得上ASML，这时候还不如另辟蹊径，通过加大对其他路线的研发投入，说不定未来还能够实现弯道超车。
虽然研发新的路线可能会面临很多困难，甚至会面临产业链重塑，但是对于我国光刻机行业来说，反正我们也没有什么可以失去的，那还不如放手一搏。
